中芯国际14nm良品率达到标准后，对我国芯片产业有什么影响？

前不久的中芯投资者调研会议上，CEO梁孟松博士透漏了公司最新进展，他表示14nm已经在去年第四季度投入量产，良品率以达到业界量产标准。同时第二代先进技术工艺n+1正在稳步推进当中，相对于第一代技术，第二代技术平台相较14nm性能提升了20%，功耗减少了57%，逻辑面积减少了63%，集成面积减少了55%。

也就是说，中芯国际不仅实现了14nm芯片的量产，而且它的第二代n+1技术更加先进，从参数上可以对标台积电7nm技术了。而台积电第一批量产的7nm芯片是华为的麒麟980和苹果的A12。也就是说台积电在芯片制造技术上，距离台积电这样的顶级企业只剩下2年左右的差距。因此这次中芯国际14nm芯片两场，和第二代n+1技术的公布，对于国产芯片行业肯定是有正面意义的。

虽然目前台积电已经实现了5nm芯片的量产，14nm可以说是比较落后的技术了。但是除了对芯片比较敏感的智能手机行业之外，14nm芯片仍然可以广泛应用在各行各业。比如现在新能源汽车都会配备智能车机，很多车机的处理器都使用的是高通骁龙625，这就是一块非常经典的14nm芯片。由于车机对性能和功耗的要求不高，所以14nm处理器是完全够用的。随着新能源汽车的逐渐普及，中芯的14nm芯片肯定还是有大量需求的。

但是另一方面我们还应当看到，中芯的14nm和n+1技术都需要使用来自ASML的光刻机，也就是说其中仍然大量地运用了美国等其它国家的技术。因此根据美国商务部的要求，中芯仍然没有办法把14nm芯片卖给华为。

此外芯片的制程越先进，对制造工艺的要求也就越高。目前中芯还只有ASML的DUV光刻机，如果想要追赶台积电实现更加先进的5nm芯片，就需要使用ASML最新的EUV光刻机，而这种光刻机对方轻易是不会出售的。所以中芯的芯片制程如果想再进一步也是非常困难的。中芯CEO梁孟松也承认：我们距离世界一流企业，还有一定的技术差距，还有很长的路要走。

因此对于国内的芯片行业而言，一方面需要借助先进光刻机来制造芯片，满足市场需求。另一方面仍然需要投入足够的研发力量来实现芯片制造的完全自主，只有实现芯片的纯国产化，才能避免我们的高科技行业被外国卡脖子。据说目前国内企业已经实现了28nm芯片的纯国产化，虽然和台积电相比还有很大差距，但只要有耐心和不断投入，总会有收获的一天。